吸潮結(jié)塊是傳統(tǒng)鈣基脫硫劑的 “通病”，常導(dǎo)致脫硫劑活性衰減快、長(zhǎng)治壺關(guān)儲(chǔ)存期短，進(jìn)而引發(fā)收率大幅波動(dòng)。長(zhǎng)治壺關(guān)聯(lián)合中科院材料研究所，研發(fā)出納米級(jí)改性硅烷防護(hù)涂層，從根本上解決這一行業(yè)痛點(diǎn)，保障收率長(zhǎng)期穩(wěn)定。該涂層厚度控制在 50-80nm，均勻包覆在每一顆脫硫劑顆粒表面，具備疏水性能，接觸角達(dá) 110° 以上，即使在濕度 80％、長(zhǎng)治壺關(guān)同城溫度 50℃的南方梅雨季節(jié)，儲(chǔ)存 6 個(gè)月后水分含量仍低于 1.2％，遠(yuǎn)低于普通脫硫劑 5％ 的臨界值。同時(shí)，涂層表面光滑且?guī)в腥跖懦怆姾?，可防止粉塵、長(zhǎng)治壺關(guān)同城油污等雜質(zhì)黏附，避免顆粒間形成硬團(tuán)聚，還能允許反應(yīng)所需氣體分子通過(guò)，不影響脫硫活性。某化工園區(qū)集中處理 12 家企業(yè)混合煙氣，脫硫系統(tǒng)需全年 24 小時(shí)運(yùn)行。此前使用普通脫硫劑，每 2 個(gè)月需更換批次，且更換前 15 天，因脫硫劑結(jié)塊活性衰減，收率從 90％ 降至 75％，需額外增加投加量維持達(dá)標(biāo)，年損耗成本超 50 萬(wàn)元。改用長(zhǎng)治壺關(guān)鈣基脫硫劑后，憑借抗劣化涂層技術(shù)，儲(chǔ)存周期延長(zhǎng)至 18 個(gè)月，投用后可實(shí)現(xiàn) 6 個(gè)月不間斷運(yùn)行，期間收率波動(dòng)嚴(yán)格控制在 ±1.5％ 以?xún)?nèi)。同時(shí)，無(wú)需頻繁停機(jī)更換脫硫劑，每年減少 3 次系統(tǒng)啟停，每次啟停導(dǎo)致的 2％ 收率損失徹底避免，僅這一項(xiàng)年節(jié)省成本約 28 萬(wàn)元，綜合年降本超 70 萬(wàn)元。

電子、長(zhǎng)治壺關(guān)本地半導(dǎo)體等行業(yè)煙氣中二氧化硫濃度極低（常＜100mg/m3），傳統(tǒng)鈣基脫硫劑因反應(yīng)驅(qū)動(dòng)力不足，難以有效捕獲低濃度二氧化硫，收率普遍低于 80％，無(wú)法滿(mǎn)足超低排放要求（＜35mg/m3）。長(zhǎng)治壺關(guān)針對(duì)低濃度場(chǎng)景，研發(fā) “SO?富集反應(yīng)” 鈣基脫硫劑，在顆粒內(nèi)部植入 “分子捕獲劑”：分子捕獲劑可通過(guò)范德華力與二氧化硫分子結(jié)合，將局部區(qū)域二氧化硫濃度 10 倍以上，為鈣基成分反應(yīng)提供充足原料；同時(shí)，采用 “多級(jí)反應(yīng)結(jié)構(gòu)”，顆粒從外到內(nèi)設(shè)置不同活性梯度，確保低濃度二氧化硫逐步被捕獲反應(yīng)。?某電子廠煙氣二氧化硫濃度穩(wěn)定在 80mg/m3，此前使用普通脫硫劑，收率僅 78％，排放濃度超 50mg/m3，需額外投入吸附裝置（年運(yùn)行成本 25 萬(wàn)元）。改用長(zhǎng)治壺關(guān)富集反應(yīng)脫硫劑后，分子捕獲劑將局部二氧化硫濃度至 800mg/m3，多級(jí)反應(yīng)結(jié)構(gòu)確保充分反應(yīng)，收率至 94％ 以上，排放濃度控制在 28mg/m3 以下，無(wú)需額外吸附裝置，年節(jié)省成本 25 萬(wàn)元。同時(shí)，因反應(yīng)徹底，脫硫劑投加量減少 15％，年降本超 18 萬(wàn)元。