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催化燃燒廢氣處理設備系統特點:   1、催化燃燒采用RCO工藝凈化有機廢氣,可同時去除多種有機污染物,具有工藝簡單、設備緊湊、運行可靠等優(yōu)點;   2、催化燃燒設備具有凈化率高,一般均可達95%以上;   3、催化燃燒設備具有運行費用低的優(yōu)點,其熱回收率一般可達95%以上;   4、整個過程無廢水產生,凈化過程不產生二次污染;   5、催化燃燒RCO凈化設備可與烘箱配套使用,凈化后的氣體直接回用到烘箱加熱設備,達到節(jié)能減排的目的;   6、催化燃燒設有5道裝置,杜絕事故發(fā)生;   7、催化燃燒蓄熱系統采用加熱系統分段工作,自動跟蹤溫度并內置蓄熱裝置,節(jié)能省電;



光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產物,而傳統的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒,大多數生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時,燃燒生成產物中HCl或SO2,需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講,只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產生電子和空穴,該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點,具體研究中可根據需要選用,如CdS半導體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。




印刷行業(yè)催化燃燒裝置吸附脫附催化燃燒主要用于涂裝、印刷、機電、家電、制鞋、塑料及各種化工車間里揮發(fā)或泄漏出的有害有機廢氣的凈化及臭味的,適用于較低濃度的、不宜采用直接燃燒或催化燃燒和吸附回收處理的有機廢氣,尤其對大風量的處理場合,均可獲得滿意的經濟效益和社會效益。 印刷行業(yè)催化燃燒裝置在燃燒室中,有機廢氣再由燃燒器加熱燃燒,加熱升溫至設定的氧化溫度,此時溫度同樣為設定的800℃,使有機物被分解成二氧化碳和水。由蓄熱室排出。在此同時,由廢氣引風機抽出少許前一循環(huán)殘留在蓄熱室中的微量有機氣體,再送至燃燒室中進行焚燒,此部分氣體同處理后氣體一起離開蓄熱室,經熱回收設備排入大氣。


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