光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

沸石轉輪加催化燃燒裝置 吸附脫附催化燃燒設計原理*、用材獨特，性能穩(wěn)定，結構簡便，可靠，節(jié)能省力，無二次污染。設備占地面積小，重量輕。吸附床采用抽屜式結構，裝填方便，便于更換， 自動控制系統(tǒng)的信號檢測器設置于出氣口處，對出氣口的廢氣濃度進行自動檢測，并將濃度數(shù)據(jù)傳輸給PLC控制器，PLC控制器根據(jù)傳輸數(shù)據(jù)發(fā)出控制指令，控制進氣口上的進氣閥門和催化燃燒進氣閥門的自動開啟、閉合，通過對活性炭吸附層的實時脫附實現(xiàn)活性炭吸附層的連續(xù)凈化。為保證生產(chǎn)的連續(xù)運行，設有兩套吸附脫附裝置交替使用。 針對催化燃燒廢氣特點，首*行分類收集，先用設備對工藝產(chǎn)生的煙氣進行處理，在多功能塔內對廢氣進行噴淋吸收，廢氣除味劑、吸收液、化工廢氣除臭劑與其進行充分反應，對VOCs氣體進行一定的分解處理，在末端尾氣處理器上，用有機廢氣催化劑進行光解催化氧化反應，對化工臭氣進行催化裂解處理，對苯類尾氣進行冷凝回收，整個除臭裝置工藝設計合理，廢氣治理設施運行記錄標明，凈化效率一直保持在99%以上。對環(huán)境的污染治理有很大的幫助！