
全程水處理器功能參數(shù)
控制腐蝕率 ≤ 0.092毫米/年 防垢除垢效率≥98% 殺菌滅藻≥97% 過(guò)濾效率73%~99%
壓力損失:0.01~0.03Mpa(初始?jí)簱p)
工作電源:220V±10% 50~60Hz
絕緣電壓:5000V
工作環(huán)境要求:-25℃ ~+50℃ 相對(duì)濕度 ≤ 95%
工作介質(zhì)溫度:0℃ ~+90℃
平均無(wú)故障時(shí)間:不小于50000小時(shí)
一種水處理裝置,其特征在于,在向被處理水中注入過(guò)氧化 氫后注入臭氧,處理被處理水的水處理裝置中,該裝置具有:向注入 過(guò)氧化氫前的被處理水的一部分照射180~300nm的光,測(cè)定吸光度, 往其中注入臭氧,照射同樣波長(zhǎng)的光,測(cè)定吸光度,求出臭氧注入前 的被處理水的吸光度與臭氧注入后的處理水的吸光度之比達(dá)到規(guī)定值 的臭氧注入率的臭氧注入率計(jì)算系統(tǒng);以及,向其余的被處理水注入 過(guò)氧化氫的過(guò)氧化氫注入單元;向注入了過(guò)氧化氫的被處理水,按照 臭氧注入率計(jì)算系統(tǒng)求出的臭氧注入率注入臭氧,使被處理水與臭氧 反應(yīng)的臭氧反應(yīng)塔。
說(shuō)明書
水處理方法及水處理裝置
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及水處理方法及水處理裝置。


因此,作為既能保持通過(guò)促進(jìn)氧化處理的難分解性有機(jī)物的分解 去除能力,又可以抑制BrO3 -的生成的對(duì)策,在作為促進(jìn)氧化處理技術(shù) 之一的臭氧·過(guò)氧化氫并用處理中,通過(guò)相對(duì)臭氧注入率增大過(guò)氧化 氫注入率,抑制BrO3 -的生成的方法已經(jīng)提出(例如,參見 文獻(xiàn)1)。 然而,雖然通過(guò)增大過(guò)氧化氫注入率可抑制BrO3 -的生成量,但存在過(guò) 氧化氫的藥液費(fèi)用增加的問(wèn)題。另外,在臭氧·過(guò)氧化氫并用處理后 的處理水中,未反應(yīng)約過(guò)氧化氫由于過(guò)氧化氫注入率的增大而殘留(例 如,參見非 文獻(xiàn)1),存在在臭氧·過(guò)氧化氫并用處理的后段設(shè) 置的活性炭處理中過(guò)氧化氫去除負(fù)荷增大的缺點(diǎn)。另外,由于過(guò)氧化 氫與有效氯反應(yīng)而被消費(fèi),故在活性炭處理后的處理水中殘留過(guò)氧化 氫時(shí),存在用于消毒的必要的氯量增大的缺點(diǎn)。
另外,在臭氧·過(guò)氧化氫并用處理中,當(dāng)過(guò)氧化氫注入率相對(duì)臭 氧注入率不足時(shí),與采用同樣的臭氧注入率實(shí)施臭氧單獨(dú)處理時(shí)相比, 存在BrO3 -的生成量增大的問(wèn)題(例如,參見非 文獻(xiàn)2)。因此, 在臭氧·過(guò)氧化氫并用處理中,為了抑制BrO3 -的生成,必需考慮增大 過(guò)氧化氫注入率。



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